ASML做出光刻机决定后，外媒：弯道超车失败了

ASML

福无双至，祸不单行。在日本宣布23项出口管制之后，荷兰也将于6月末或7月初公布半导体管制的具体细则，美国、日本、荷兰所构筑的芯片三方协议的“铁幕”也将正式成型。

美日荷是中国最大的芯片设备进口国

(资料图片)

无论是日本的半导体材料还是荷兰的半导体设备，美、日、荷三个国家也正好是中国半导体设备进口排名前三的国家。在总共410亿美元年的进口额中，日本以118亿美元排名第一，美国以68亿美元排名第二，荷兰以25亿美元排名第三。

这也是为什么美国要竭力推动美日荷三方芯片协议的原因——以往仅有美国一方采取限制措施时，日本和荷兰则趁机加大半导体领域的出口，这也导致美国在芯片领域的优势被不断蚕食，中日荷则成为潜在的赢家，2022年中国芯片产量达到亿块就是这一现象的最好写照。

光刻机

也正是因为发现了这一问题，美国才后知后觉并强迫日、荷两国一同采取限制，试图从半导体上游开始进行封锁，其中来自于ASML的光刻机更是其中的重头戏。

作为芯片制造的核心设备，光刻机是发展芯片产业无法绕过的一道环节，顶级可用于7nm及更先进制程的EUV光刻机每台售价超过12亿元，可以说是名副其实的“吞金兽”。而即使造价如此高昂，EUV光刻机依然供不应求，如今中国芯片市场虽然欣欣向荣，但由于封锁导致依然连一台EUV光刻机都没有，这也是制约国内芯片产业向7nm制程发起挑战的关键因素。

外媒报道荷兰将公布管制细节

根据路透社等多家媒体报道，在加入芯片三方协议之后，荷兰将增加在光机领域的限制，将范围从EUV光刻机向DUV光刻机扩展。相比于用于先进制程的EUV光刻机，DUV光刻机被广泛应用于14nm~56nm之间，是使用数量最多的光刻机。一旦荷兰选择将DUV光刻机也加入到限制行列，那么对于国产芯片产业的发展也是一记重击。

国产企业庆祝搬入ASML光刻机

但另一个方面的影响或许更值得关注——那就是现有光刻机的维护和调试等业务。自1988年ASML向中国出口第一台步进式光刻机，在35年的漫长时间，中国已经成长为ASML最大市场之一，光刻机总装机量也早就超过了1000台。

由于ASML在光刻机领域的技术领先优势，众多国产芯片厂商也对ASML光刻机趋之若鹜，每次引进ASML光刻机都要大张旗鼓进行宣传，这也使得ASML光刻机在国内市场占有率不断提升，所有企业都以拥有ASML光刻机为“荣耀”，在一定程度上也挤压了国产光刻机的发展。

国产企业庆祝搬入ASML光刻机

如今随着芯片三方协议的影响，以往追捧ASML光刻机的选择也开始反噬。由于在光刻机等基础领域投入不足，所有企业全部“一窝蜂式”地进入芯片制造行业，这也造成了相反的两种情况——一面是芯片产能逐渐过剩，很多企业不得不打起价格战；另一方面则是光刻机等基础设备依然供不应求，如今更是面临限制的境地。

作为当前工业技术上的明珠，ASML为了防止光刻机被逆向工程因此在所有设备中都加入了监测模块来监控光刻机的状态。在芯片三方协议逐渐落地之后，这1000台ASML光刻机也成为巨大的不确定因素。一旦ASML不再为这些光刻机提供维修和维护、调试等服务，那么对于这些高度依赖ASML设备的国产芯片企业来说也将立刻“停摆”。

外媒报道内容

因此外媒也报道ASML这一举措扯下了国产芯片产业的“遮羞布”，暴露出了真实水平。不可否认在一定程度上确实显现出了一些问题，大量企业热衷于芯片等“肉眼可见”的技术方向，却很少有企业选择对光刻机等基础领域进行研发和投入，这也是造成如今困境的原因。

国产光刻机

但事实上国产企业并没有止步不前，中科院微电子所与科益虹源完成了光刻机光源系统的研发、华卓精科与清华大学完成了双工作台系统的研发、浙江大学与启尔机电成功研制出光刻机浸没系统等等。在光刻机技术领域，国产企业也在奋起直追，试图打破ASML一家独大的态势。

不可否认差距依然是存在的，在加入芯片三方协议之后，ASML的光刻机出口管制也将使得中国芯片产业出现一些波折。但是从长远来看，此举也将引起多方对于国产光刻机的重视，并加大推动国产光刻机研发的力度。

国产芯片

就像我们在高铁、国产大飞机、特高压设备、光伏设备、盾构机等领域取得突破一样，当光刻机领域追赶甚至完成反超之后，ASML又还能剩下些什么呢？而攻克下光刻机这个最后的堡垒或许将成为中国芯片崛起的标志。

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